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# 半導体関連装置カタログ

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半導体関連装置カタログSemiconductorEquipmentsCatalogue

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JUSTRIGHTお客様に適応した製品でビジネスを支える私たちダルトンは80年の歴史の中で、確かな技術力とノウハウという芽を育て根を張り、幅広い分野にてお客様のニーズにお応えしてきました。これまで育ててきた根に支えられて作られる半導体製造装置。この半導体製造装置事業でダルトンは確かな技術力を基に、柔軟なカスタマイズ力と幅広いラインアップを実現。さらに実機体験を通して、ニーズをしっかり形にしお客様のビジネスに最適な装置を提供していきます。2SemiconductorEquipmentsCatalogue

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JUSTRIGHTを実現する理由1234幅広いラインアップ剥離・洗浄・乾燥工程の他、リフトオフ工程やメッキ工程など、半導体製造にかかわる幅広い工程に適応する、ラインアップを有しています。高いカスタマイズ力ダルトンの装置は一品一様での製作が可能です。ウエハーや用途、仕様に応じた特注設計を実現します。研究～量産レベルまで対応剥離・洗浄装置には枚葉式・バッチ式を備え、カセットの搬送は手動・自動のいずれにも対応。研究開発向けの少量生産用から量産機まで、柔軟に製作可能です。テストセンターでの充実した装置体験お客様に安心して装置を選定いただけるよう、テストセンターを有しています。4SemiconductorEquipmentsCatalogue

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5エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫メッキリフトオフレジスト剥離・有機洗浄溶剤再生ベーク乾燥ボンベ加熱炉レジスト塗布・現像P.6〜オプションP.14〜P.20〜P.24〜P.22P.33P.34P.23P.12P.30P.36P.38P.39P.32リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプション溶剤再生レジスト塗布・現像ベークエッチング・洗浄ポーラスシリコン形成乾燥メッキボンベ加熱炉ドラフトチャンバーストッカー・保管庫排ガス処理テスト機ラインアップ

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6SemiconductorEquipmentsCatalogueLift-OffリフトオフHU型量産向け反転槽装置を動画でチェック！Jetチャンバー金属膜剥離の様子ウエハー搬送ロボットバッチ膨潤処理により「バリ」が出にくく、確実にウエハーを仕上げることができます。また、高圧ジェットチャンバーにより、処理時間の短縮も実現しています。バッチ・枚葉の併用でより速く、確実に仕上げるSuffixSystem超音波モニターDomJetSystemUSFSystemISFSystemチャンバー洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystem対応オプション

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アンローダー反転槽リンス槽剥離槽ローダー循環ポンプJetチャンバー（リフトオフ、リンス、乾燥）センタリングJetチャンバー（リフトオフ、リンス、乾燥）アンローダーセンタリング反転槽リンス槽剥離槽剥離槽ローダー循環ポンプJetチャンバー（リフトオフ、リンス、乾燥）アンローダーセンタリング反転槽リンス槽剥離槽剥離槽ローダー循環ポンプ7HU型3槽×5チャンバー3槽×3チャンバー2槽×2チャンバーリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップリフトオフ

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JetチャンバーセンタリングローダーアンローダーリンスチャンバーJetチャンバーJetチャンバーリンスチャンバーセンタリングローダーアンローダーリンスチャンバー×2Jetチャンバー×2（リフトオフ）センタリングアンローダーローダー装置を動画でチェック！8SemiconductorEquipmentsCatalogueLift-Offリフトオフバリが出にくいウエハーを高圧ジェットで最適に処理高圧ジェット処理で剥離が可能なウエハーに最適です。オプションでメガソニックシャワー・パドル機構にも対応します。SuffixSystem超音波モニターDomJetSystemUSFSystemISFSystemチャンバー洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystem4チャンバー3チャンバー2チャンバーメガソニックシャワーノズルHM型研究開発・量産向け対応オプション

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センタリングアンローダーJetチャンバー（リフトオフ、リンス、スピン乾燥）浸漬・反転槽（手動投入）Jetチャンバー（リフトオフ、リンス、乾燥）9HM型・CHU型・MJ型CHU型研究開発向けMJ型研究開発向けHU型の特長を受け継ぎ、高圧ジェットチャンバー、浸漬・反転槽を有したコンパクトな装置です。Jetチャンバーのみを有したタイプ。ウエハー投入・払出は手動で操作できます。高圧ジェット処理のみで剥離が可能なウエハーに最適です。HU型の速さと確実な仕上がりをコンパクトな装置で実現ロボットでは搬送が困難なワークの処理が可能1槽×1チャンバー1チャンバー浸漬・反転槽真空チャックSuffixSystem超音波モニターDomJetSystemUSFSystemISFSystemチャンバー洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystemSuffixSystem超音波モニターDomJetSystemUSFSystemISFSystemチャンバー洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystem対応オプション対応オプションリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップリフトオフ

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ローダーアンローダースピンドライヤーリンス槽リンス槽剥離槽（粗）剥離槽（本）剥離槽（精密）10SemiconductorEquipmentsCatalogueLift-OffリフトオフSL型量産向けシャワードレンディップ槽2カセット処理5槽構成×スピンドライヤー式ディップ槽のみでリフトオフ処理を行い、枚葉式に比べスループットの向上が可能です。上方からのシャワーと下方のドレンにより剥離スラッジの再付着を防止します。量産性にこだわったバッチ処理モデル対応オプションSuffixSystem超音波モニターDomJetSystemUSFSystemISFSystemチャンバー洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystem

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剥離槽リンス槽（QDR）剥離槽1剥離槽2リンス槽（QDR）上下揺動貯蔵タンク（オプション）手動回収シャワーAシャワーB減圧排気膜回収カゴ膜回収カゴ超音波揺動装置11SL・ML型参考フロー図SL型・ML型ML型研究開発・量産向け1カセット処理3槽構成1カセット処理2槽構成SL型からローダー、搬送機、アンローダーを削除した手動リフトオフ装置。SL型の特長を手軽なコスト・サイズで実現対応オプションSuffixSystem超音波モニターDomJetSystemUSFSystemISFSystemチャンバー洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystemリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップリフトオフ

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Strippingレジスト剥離・有機洗浄レジスト剥離・有機洗浄装置リフトオフ装置で培った剥離・フィルタリング技術を活かした装置を提供メンテナンス性に優れた背面上部搬送機タイプ。各種超音波のテストとご提案が可能です。危険物、引火性薬液への安全対策もお任せください。対応オプションSuffixSystem超音波モニターDomJetUSFISFチャンバーSystemSystemSystem洗浄機能QuadJetSystemFlushDrainSystem装置内部4キャリア対応チャックミスセンサーフック付きキャリア搬送12SemiconductorEquipmentsCatalogue

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レジスト剥離・有機洗浄装置4キャリア×6槽オプション溶剤再生2キャリア×4槽ベークリフトオフレジスト剥離・有機洗浄レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成メッキ乾燥2キャリア×10槽ボンベ加熱炉ドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップ13

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LOLOOKHIHILOLOOKHIHI出力低下異常14SemiconductorEquipmentsCatalogueOptionオプションSuffixSystem（SurfaceUltrasonicFlatfixSystem）特許取得技術により処理槽の超音波効率を向上超音波槽の音圧を定点で監視するシステム超音波モニター液中の定在波により、深さや位置で測定値がバラつきます。定点測定により、定在波の影響を払拭。更に内部アルゴリズム処理により安定したモニタリングを可能にしました。新提案従来ウエハーカセットによる減衰（超音波の陰）が出にくく、カセット内のウエハー回転も不要です。また常温剥離液でも安定した処理が可能で、危険な薬液を使用することなく処理できます。テスト条件処理液純水処理時間10分処理温度27℃周波数40kHzSuffixSystem/OFFSuffixSystem/ONSuffix超音波照射の様子通常超音波照射の様子SuffixSystemの効果4インチウエハー表面にアルミホイル11μmを貼り、その表面ダメージを観察。

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剥離槽にウエハー投入超音波による膨潤膨潤が進み徐々に剥離液中高圧Jet＋急速排水急速排水と低圧Jet剥離槽からウエハー払い出し膨潤完了後液中高圧Jet15SuffixSystem・超音波モニター・DoMJetSystemDoMJetSystem（DownFlowandMultimodeJetSystem）ウエハーにこびりついた金属膜を削ぎ落とす液中高圧Jet機能と、金属膜やレジスト残渣の再付着を防止するクイックダンプ機能を搭載。これにより各リフトオフ装置の性能をより向上できます。HU、SL、ML型の性能をより向上DoMJetSystem搭載処理槽〈DoMJetSystemの動作例〉特許取得技術リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップオプション

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OptionオプションUSFSystem（UltrameshSludgeFiltrationSystem）大量のスラッジ（金属膜）を高効率に回収するシステムスラッジを特殊形状のメッシュを介して、かごで間接的に受けるシステムを採用。また、スラッジが循環ラインに流れ込みにくい構造の為、「ISFSystem」との併用によりスラッジ回収効率を向上できます。スクリーンスラッジ回収槽従来のスラッジ回収方式排出された液とスラッジはメッシュかごで直接受ける。スラッジが溜まるとその機能を失い、スラッジはあふれ出し循環ラインへ。スラッジでメッシュかごに目詰まりが発生。USFSystem回収方式排出された液とスラッジは特殊メッシュを介し、かごで間接的に受ける。スラッジが溜まっても、少量の液しかかごまで到達しないため、あふれ出すことがない。スラッジで特殊メッシュが目詰まりせず、洗浄が容易。液排出口スラッジ混入液メッシュかご液排出口スラッジ混入液特殊形状メッシュスラッジ回収かご液のみ再利用液のみ再利用16SemiconductorEquipmentsCatalogue

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PISFSystemインラインスラッジ除去装置捕集カゴで膜状スラッジ捕集リフトオフ装置循環ポンプメインフィルタースラッジの排出管剥離槽スラッジドレンスラッジ混入前スラッジ混入スラッジドレン前スラッジドレン17USFSystem・ISFSystemISFSystem（InlineSludgeFiltrationSystem）スラッジ捕集能力10um<95%以上（純水時）。バルブ操作のみで捕集したスラッジの回収が可能です。消耗品がなく、メンテナンスフリー。更にメインフィルターの交換頻度を低減することで廃棄物削減にも貢献します。剥離槽で出たスラッジ（金属膜）を分離・回収するシステム剥離槽循環ポンプメインフィルターISFSystemスラッジ堆積スラッジ沈降循環ポンプ金属膜や固形物の排出管InlineSludgeFiltrationSystemリフトオフ工程剥離槽メインフィルターリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップオプション

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Optionオプション新ジェットチャンバー機能チャンバー内のスラッジ（金属膜）を自動でクリーニングアンチスカターシャワー、インナーアラウンドスプレー、カスケードドロップの３つに分かれたシステムで、チャンバー内に付着したスラッジの滞留を防ぐことでウエハーへの再付着や飛散を防止し、歩留まりの向上に寄与します。アンチスカターシャワーチャンバー内側へ向けてリサイクル液を吐出する事により、スラッジ（金属膜）付着防止及び飛散防止を行います。高圧ジェットノズルスラッジウエハーチャンバーインナーアラウンドスプレーチャンバー内に流れたスラッジ（金属膜）をより確実に回収する為に、チャンバー内に液流を作るノズルを増設します。※アンチスカターシャワー、インナーアラウンドスプレー、カスケードドロップで使用する液はバッファタンクから循環リサイクルした液を供給します。回収カゴカスケードドロップチャンバー底部へ流れてきたスラッジ（金属膜）を回収カゴへ押し流します。18SemiconductorEquipmentsCatalogue

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Jetノズルパターン1パターン2パターン3斜めノズル垂直ノズル内槽スクリューフローノズル外槽19新ジェットチャンバー機能・QuadJetSystem・FlushDrainSystem４つのノズルでの同時Jet処理により、頑固な金属膜を剥離。いろいろな用途、目的に合わせノズル配置がカスタマイズ可能です。QuadJetSystem4つのノズルでJet処理能力を向上イメージ図槽内に設置したスクリューフローノズルから液を吐出することにより、槽内に渦が生まれスラッジを効率良く排出することができます。排液中、槽内の液が少なくなったタイミングで超音波を照射し、スラッジを排出口へ誘導。繰り返し行うことで槽内のスラッジを効率良く排出します。FlushDrainSystem槽内のスラッジ（金属膜）を効率良く排出するシステムリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップオプション

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蒸気取入口再生液回収容器冷却ファン蒸留タンク蓋（安全弁兼用）蒸気気体液体冷却風再生液下部埋込ヒーター（ヒーター自体は露出しておらず、液には直接触れません。）コンデンサー廃溶剤20SemiconductorEquipmentsCatalogueSolventRecycler溶剤再生■炭化水素系溶剤トルエン、キシレンなど■アルコール系溶剤メタノール、エタノール、ブタノール、IPA、NMPなど■ケトン系溶剤アセトン、MEKなど■エステル系溶剤酢酸ブチル、酢酸エチルなど■臭素系溶剤■フッ素系溶剤■塩素系溶剤再生テストを受け付けております。お気軽にお問い合わせください。再生できる溶剤溶剤再生装置の仕組み溶剤再生装置リフトオフや有機剥離洗浄で発生した廃溶剤を蒸留再生します。蒸留温度は1℃単位で設定でき、加熱ヒーター出力調整も可能なので広範囲な溶剤に対応可能です。再生後に残った残渣は、蒸留タンク底部の手動式ドレンバルブもしくはライナーバックを使用することにより簡単に除去できます。リフトオフ装置、有機剥離洗浄装置と組み合わせたシステムの提案が可能です。廃溶剤を蒸留して回収する再生システム

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溶剤再生装置溶剤再生装置（ラインナップ）連続式・廃液の発生量が30〜250ℓ/日の程度の場合。・蒸留再生後の残渣物が液状、または固形状であっても残渣物の量が少ない場合。リフトオフ型式DDC30NJ/PJDDC70NJ/PJDDC100NJ/PJ処理能力（目安）5〜20ℓ/時間10〜25ℓ/時間15〜30ℓ/時間レジスト剥離・有機洗浄ヒーター出力3,000W3,400W4,500W寸法（mm）W710×H1,080×D430W953×H1,080×D512W1,060×H1,180×D600オプション重量約90kg約110kg約150kg駆動源単相200V/圧縮空気5〜6kg/cm2蒸留温度75℃〜200℃、1℃単位調整溶剤再生減圧装置オプション廃液自動吸入機能○○○再生液自動移送装置オプション○○防爆一体型防爆構造日本の耐圧防爆、本質安全防爆構造の要求事項に適合ベークレジスト塗布・現像エッチング・洗浄バッチ式・廃液の発生量が10〜150ℓ/日の程度の場合。・蒸留再生後の残渣物が、液状・固体状のどちらにも対応。型式DRS970CE-SSJDRS1600CE-SSJDRS2000CE-SSJDRS2000-PJ処理能力（目安）5〜10ℓ/時間7〜14ℓ/時間10〜20ℓ/時間7〜20ℓ/時間ヒーター出力2,200W2,800W3,400W3,400W寸法（mm）W710×H1,150×D430W953×H1,080×D512W1,060×H1,180×D600W1,060×H1,180×D600ポーラスシリコン形成メッキ乾燥ボンベ加熱炉重量約85kg約100kg約130kg約130kg蒸留タンク容量25ℓ50ℓ80ℓ80ℓ駆動源単相200V/圧縮空気5〜6kg/cm2蒸留温度50℃〜200℃、1℃単位調整減圧装置オプション内蔵廃液ポンプ吸入機能○○○○ドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫再生液ポンプ移送機能×○○○防爆国際規格IEC60079シリーズに適合日本の耐圧防爆、本質安全防爆構造の要求事項に適合テスト機ラインアップ21

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Bakingベークセミオートベーク装置（プリベーク・ポストベーク用）ベーク処理の安全性が格段に向上した、どなたでも簡単に扱えるベーク装置熱源に手を近づけずにベーク処理が可能なので、安全性が格段に向上。スタートスイッチのみの簡単操作により熟練度に左右されず、高い作業性とプロセスの安定化を実現します。上面仕様（例）■Φ6インチ用■常用120℃（MAX200℃）過熱防止計付属■2レーン独立温度調節・独立駆動■各2段ベークタイマー付属（プロキシミティベーク・コンタクトベーク）■操作パネルのハードスイッチによるスタート・ストップ・リセット■アルミ鋳込ヒーター・トッププレート付属■搬送速度はスピコンにて調整可■エアー、真空圧力低下異常検知■吸着用真空ポンプ（オプション）■ホットプレート上部安全カバー付属■排気ダンパー付属側面22SemiconductorEquipmentsCatalogue

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23Coater/Developerレジスト塗布・現像基板サイズΦ4〜12インチ角基板にも対応時間設定999.9秒回転数20〜5000rpmセーフティインターロック真空:標準装備蓋:オプション回転精度±1rpm（負荷時）滴下装置オプション機種により不可モーターACサーボモーター使用真空圧-0.08〜-0.1MPaステップパターン数100ステップ×10パターン電源AC100〜240V5A※ミカサ株式会社のOEM製品ですスピンコーターラボ用スピンコーター。成膜に関する課題解決をサポート基板サイズ1〜12インチ時間設定999.9秒回転数0〜3000rpmセーフティインターロック真空:標準装備蓋:オプション回転精度±1rpm（負荷時）滴下装置オプション機種により不可モーターACサーボモーター使用真空圧-0.08〜-0.1MPaステップパターン数100ステップ×10パターン電源AC100〜240V5A※ミカサ株式会社のOEM製品ですスプレーパドル現像装置ラボ用現像装置。タッチパネルにてプログラム簡単入力が可能ドラフトチャンバー各種卓上型装置の使用に適したドラフトチャンバーを製作します■寸法:W1200×D850×H2100mm■作業面高さ:700mm■照明色:イエロー■ユーティリティ:真空ポンプ用電源／N2／CDA仕様（例）リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップレジスト塗布・現像ベーク

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Etchingエッチング・洗浄バッチ式エッチング・洗浄装置長年の技術を活かし、コストダウンに配慮した提案が可能前面搬送機タイプ・背面搬送機タイプにも対応できます。処理槽やリンス槽の数、乾燥方式等、さまざまなカスタマイズが可能です。〈提案例〉1.装置専用室内型スクラバーを装着する。2.前面風速モニターを取り付けることにより作業者が安全を認知、さらに排気風量調整ダンパーとの連動でクリーンルームの負荷を軽減。薬液秤量タンクQDR式リンス槽MS&比抵抗モニター付FR槽装置を動画でチェック！洗浄槽スピンドライヤーIPAベーパー乾燥機能組込も可能24SemiconductorEquipmentsCatalogue

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バッチ式エッチング・洗浄装置濃度管理濃度センサーと自動補給機能を組み合わせて薬液の濃度を管理します。例：TMAH、KOH、HF、HCLなどリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプション溶剤再生蒸発対策槽内の薬液の表面積を少なくすることで、蒸発を抑制します。改造実施前後で1/10へ蒸発量が減少した事例があります。効果は薬液の性質、ご使用温度によって異なります。ベークレジスト塗布・現像安全性の向上内部に仕切り扉を設けた手動バッチ式エッチング装置奥の薬液槽手前に扉をつけることで安全性を向上させ、薬液から作業者を守ります。ポーラスシリコン形成メッキ薬液槽手前の扉乾燥ボンベ加熱炉ドラフトチャンバー装置外側の扉他にも比抵抗計、濃度計の付属、ウエハー処理枚数やキャリア数に応じた仕様等、ご要望に応じてカスタマイズ致します。高温で薬液を使用する際に昇降機構を付けることで作業者の安全を確保します。排ガス処理エッチング・洗浄ストッカー・保管庫テスト機ラインアップ25

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Etchingエッチング・洗浄スピンエッチング・洗浄装置少量多品種に対応した、枚葉処理モデルチャンバー数やブラシ有無の選択が可能。2流体混合ノズルにより直接2種類の原液を使用した洗浄処理を実現。装置を動画でチェック！洗浄チャンバー内部洗浄チャンバー内部薬液塗布の様子ナノバブル発生装置ブラシ洗浄機構部卓上型スピン洗浄装置26SemiconductorEquipmentsCatalogue

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27スピンエッチング・洗浄装置・スピンエッチング装置・マスク洗浄装置・卓上型スピンエッチング装置カスタマイズ例スピンエッチング装置基板サイズΦ1〜12インチ角基板にも対応回転数Max3000rpm薬液圧送ポンプ圧送式セーフティインターロック真空吸着確認処理室扉カバーノズルオーバーラン過昇温薬液吐出スプレー吐出（スイングノズル式）チャンバー材質PP（ポリプロピレン）レシピ数40件主要オプション2流体ノズル薬液温調各種基板ホルダーPTFE製チャンバープロセスエッチング液:2系統リンス:1系統バックリンス:1系統基板サイズ□4〜9インチ回転数Max3000rpm薬液圧送ポンプ圧送式セーフティインターロック処理室扉カバーノズルオーバーラン過昇温薬液吐出スプレー吐出（スイングノズル式）チャンバー材質PP（ポリプロピレン）レシピ数40件主要オプション2流体ノズル薬液温調各種基板ホルダーPTFE製チャンバープロセス洗浄液:1系統リンス:1系統バックリンス:1系統マスク洗浄装置基板サイズφ1〜12インチ角基板にも対応回転数0〜3000rpm薬液圧送加圧タンク圧送式セーフティインターロック真空吸着確認処理室カバーノズルオーバーラン薬液吐出スプレー吐出（スイングノズル式）チャンバー材質PVCプログラムモード数10モード主要オプション薬液温調各種基板ホルダー設置用作業台PTFE製チャンバープロセスエッチング液:1系統リンス:1系統バックリンス:1系統※ミカサ株式会社のOEM製品です卓上型スピンエッチング装置リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップエッチング・洗浄

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【ページ内のテキスト情報】

Etchingエッチング・洗浄コンベア式エッチング装置ご要望に沿ったカスタマイズで、実験機から生産機まで幅広く対応100mm角～1000mm角のワークに対応し、揺動機構（水平揺動、ノズル首振り）を付けることで、処理効率を向上させます。カセットtoカセットへの対応も可能です。乾燥エリア洗浄エリア薬液供給装置／薬液回収装置タンクの種類や送液方法に応じてカスタム対応ポリタンク回収や大型タンク回収などの設計・製作に対応できます。また、液管理、pH管理、自動濃度管理機能にも対応し、N2圧送式、ポンプ圧送式から選択可能です。有機系薬液供給装置酸系薬液供給装置薬液回収装置回収装置内部28SemiconductorEquipmentsCatalogue

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【ページ内のテキスト情報】

コンベア式エッチング装置・薬液供給装置・薬液回収装置・治具洗浄装置／石英管洗浄装置治具洗浄装置／石英管洗浄装置治具の特性に沿った洗浄装置を提案します装置の材質、洗浄槽・リンス槽の数、乾燥方式等ご相談に応じて設計します。ブラシ組込による精密洗浄タイプも製作します。リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプション溶剤再生ベーク石英管洗浄装置レジスト塗布・現像ポーラスシリコン形成治具洗浄装置メッキ乾燥ボンベ加熱炉ドラフトチャンバー排ガス処理エッチング・洗浄ストッカー・保管庫テスト機ラインアップ小型治具洗浄装置治具洗浄装置内部石英管洗浄装置内部29

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【ページ内のテキスト情報】

Anodizationポーラスシリコン形成全自動陽極酸化装置多孔質シリコンを全自動で形成する装置従来の酸化膜を形成する技術を応用し、使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンの形成を実現しました。N型、P型ともに2～6インチまで対応可能です。縦型配置効果による複数枚処理で量産化を可能としました。特許取得技術搬送機リンス槽陽極酸化槽（平置きタイプ）30SemiconductorEquipmentsCatalogue

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【ページ内のテキスト情報】

全自動陽極酸化装置・手動陽極酸化装置手動陽極酸化装置細かいカスタマイズが可能な研究開発向け装置オプションにより薬液供給・回収機能、濃度計などを選択できます。また、陽極酸化治具はウエハーサイズ、処理方式に最適なものをご提案します。リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプション溶剤再生ベークレジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成メッキ乾燥陽極酸化治具ボンベ加熱炉ドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップ陽極酸化槽構成陽極酸化槽31

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【ページ内のテキスト情報】

Platingメッキ電解メッキ装置お客様のニーズに合わせて最適なカスタマイズが可能な電解メッキ装置Ni/Cu/Auなど、各種メッキに対応し、実験機、手動機、自動機などお客さまに合わせてワークサイズ設計から最適にカスタマイズ。メッキ専業メーカーとの協業により性能・均一性の確認後にすぐ出荷可能です。無電解メッキ装置メンテナンスにも配慮した無電解メッキ装置電解メッキ装置同様、各種カスタマイズに加え、揺動や温度調節などのカスタマイズにも対応しています。メッキが析出した槽の交換がしやすいよう、メンテナンスに配慮して設計しています。32SemiconductorEquipmentsCatalogue

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【ページ内のテキスト情報】

33スタンドアローン型Drying乾燥研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターの使用により、IPAを均一に沸騰させ、槽内の均一なベーパー発生を可能にしました。石英槽のため金属溶出もありません。ムラなく均一な乾燥処理を実現できる乾燥装置IPAベーパー乾燥装置１キャリアから４キャリア処理にまで対応し、自動機への組込も可能な乾燥装置。割れ易い（GaAsなど）ワーク用もご用意しています。幅広いキャリア処理に対応した乾燥装置スピンドライヤーインライン型自転式スピンドライヤー公転式スピンドライヤー液体間の界面張力によって引き起こされるマランゴニ効果を利用した乾燥装置。IPAベーパー方式よりもIPAの使用量を削減できます。マランゴニ効果を利用した乾燥装置IPAミスト直接置換乾燥装置リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップ乾燥メッキ

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【ページ内のテキスト情報】

VacuumHeatingボンベ加熱炉ボンベ加熱装置ボンベ内側の不純物を加熱真空引きで除去ボンベの均一な加熱と、加熱に合わせて安全弁の冷却も可能です。ボンベ加熱後の空冷システムも対応可能です。対象ボンベは3.4L〜47Lまで、同時処理本数は4〜7本掛けまで対応可能です。自動機、手動機なども予算に合わせご提案します。真空配管、真空システム、クリーン窒素を用いてボンベ内を洗浄する窒素洗浄装置も対応いたします。運転フロー①ボンベセット・加熱開始②高真空状態③冷却④N2供給・封入完了全自動運転フロー例ボンベセット・バルブ開スタート真空加熱真空度、加熱温度は任意ボンベ冷却設定時間経過後（ファン冷却）窒素パージボンベ内に窒素封入終了アラーム装置内部（イメージCG）34SemiconductorEquipmentsCatalogue

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【ページ内のテキスト情報】

ボンベ加熱装置4連型式:BK475-006連型式:BK650-405連型式:BK575-007連型式:BK750-40リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプション溶剤再生ベークレジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成メッキ乾燥ボンベ加熱炉ドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップ35

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【ページ内のテキスト情報】

FumeHoodドラフトチャンバードラフトチャンバー（機器組込み型）ニーズに合わせた操作性と安全性を両立ワークや用途に応じた仕様にカスタマイズが可能です。お客様が現在お使いの槽やスピンコーターを、弊社ドラフトチャンバーへ組込む仕様にも対応致します。組込例■薬液槽■リンス槽■揺動機構■ハンドシャワー■N2ガン■乾燥機■スピンコーターダルトンでは用途に合わせ、最適なユニットをご提供致しますので、作業効率の向上が実現します。お客様が現在お使いの槽やスピンコーターを弊社ドラフトチャンバーへ組込む仕様にも対応致します。安全対策常にお客様が安心して使えるようにさまざまなところで対策や工夫を施しています。〈対策例〉薬液回収タンク部簡単に取り外しが可能なタンク蓋薬液回収タンク満杯センサー台車付回収タンクトレー漏洩センサー36SemiconductorEquipmentsCatalogue

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【ページ内のテキスト情報】

37ドラフトチャンバー（機器組込み型）お客様の操作性と安全性に考慮した仕様を実現。お客様のご要望を最大限取り入れた仕様になるように設計致します。■必要な機器の確認。■作業する場面を想定し、各機器の位置を決定。■各機器に対する安全対策。PVC製ドラフトチャンバー耐熱板、ハンドシャワー、水栓コンセント、照明スイッチ等薬液槽（深流し仕様）薬品棚廃液ろうとエアーガンリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップドラフトチャンバー

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【ページ内のテキスト情報】

Scrubber排ガス処理室内設置型排ガス処理装置（スクラバー）エッチングや洗浄装置に合わせて装着することで、安全な運転環境を実現排ガス・風量に応じた室内型スクラバーをエッチング装置や洗浄装置に装着することで、設備が無い場所でも安全な運転環境を実現できます。酸やアルカリのガスを適切に処理することで、室外へ排気されても周辺環境や人体への心配もありません。スクラバー薬液槽等から発生する揮発性ガスをスクラバーで中和処理し排出します。薬液槽酸洗浄装置との組合せ例ガス洗浄性能ガス名入口濃度洗浄液洗浄効率横置型背面型上部搭載塩化水素（HCl）100ppmNaOH水溶液（>pH10）90%以上90%以上85%以上塩化水素（HCl）100ppm水（>pH4）80%以上80%以上80%以上アンモニア（NH3）100ppm希硫酸（<pH3）95%以上90%以上80%以上塩素（Cl2）50ppmNaOH水溶液（>pH10）95%以上90%以上90%以上二酸化硫黄（SO2）100ppmNaOH水溶液（>pH10）90%以上90%以上80%以上フッ化水素（HF）50ppmNaOH水溶液（>pH10）95%以上90%以上90%以上【注意事項】・対象ガスの洗浄効率はガス検知管で測定しています。・フッ化水素とアンモニアは洗浄処理が可能ですが、洗浄廃水には規制対象物質が含まれるため、排水処理が必要となることがあります。・アンモニア、二酸化硫黄は洗浄液のpH管理を行わないと再飛散する場合があります。フロー図シャワー部ミストセパレータ充填材循環ポンプ排気循環タンクガス洗浄部横置きスクラバーユニット給水排水フロー図38SemiconductorEquipmentsCatalogue

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【ページ内のテキスト情報】

39Stockerストッカー・保管庫庫内はクリーンな環境を維持できます。キャリアストッカー縦型と横型で保管方法を選べます。オプションでN2パージやクリーンエアー乾燥等の装備が可能です。石英管保管庫庫内はクリーンな環境を維持できます。バーコード管理にも対応できます。レチクルキャリアストッカー酸・アルカリ系薬品に適した塩ビ製、有機系薬品に適したステンレス製の製作ができます。薬品保管庫石英管保管庫内部レチクルキャリアストッカー内部リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップストッカー・保管庫排ガス処理

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【ページ内のテキスト情報】

安全対策お客様の安全を第一に考えた製品をご提供致します。装置で使用する薬液は有機溶剤系、酸・アルカリ系の危険なものです。ダルトンは実験・研究設備で培った「ドラフトチャンバーと排ガス処理装置を一貫で製作するメーカー」のノウハウを活かし、安定した性能、操作性を考慮することはもちろん、常にお客様の安全確保を大切にした製品をご提供しています。1.安全・センサー関係非常停止ボタン装置本体に取付。押された場合、装置の電源を遮断します。電磁ロック扉に電磁ロックを取付。安全な条件を満たした時にのみ扉が開きます。エリアセンサー装置内のワーク投入、取出し部に設置。センサーがONした場合、作業者との接触を避けるためにシャトル機構、搬送機、ウエハー搬送ロボットの運転を一時的に停止します。ご要望により各種安全規格認定品の設置が可能です。排気圧センサー各ダクトに圧力センサーを取付。排気圧力の低下やファン停止した場合に警報。扉センサー各扉にセンサーを取付。扉開放時に装置は一時停止し警告。一時停止ボタン装置本体に取付。押された場合、搬送機、ウエハー搬送ロボットの運転を一時的に停止します。シグナルタワー装置の状態を示します。（例:自動運転中青点滅警告発生中黄点滅警報発生中赤点滅）警告と警報警告:比較的軽微で「おしらせ」的なものです。警報:比較的重度で装置運用に支障が出るものです。それぞれの装置の動作は打合せにより決定します。漏水センサー機器本体下部に取付。漏水検知した場合、液系は全て停止し警報。40SemiconductorEquipmentsCatalogue

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41排水ラインの分離純水と薬液ラインを分離。反応熱による不具合が発生しないよう分離して排水します。装置床ドレンパン構造薬液槽より多量の薬液が漏洩した場合でも、装置下部のドレンパンにより薬液を受けることができ、装置外への漏洩を防止できます。メンテナンスを考慮した設計ポンプ、フィルターなどのメンテナンスを考慮した設計により、フィルターなどの交換時間短縮に繋がります。2.筐体及びその他の仕様について圧力センサーエアー、N2、純水の一次側圧力ラインに取付。一次側の供給圧力の低下や供給停止時に警報。過昇温対策温度センサーを二重化します。温調用温度センサーが故障した場合に過昇温を検知するとヒーター電源を遮断します。網入りガラス又は強化ガラス装置内部で火災、爆発が発生した場合にガラスの飛散を防止します。爆圧ハッチ装置内部で火災、爆発が発生した場合に装置内の圧力を逃がす為、装置天井面に設けます。内圧が下がるとハッチは元に戻ります。温度・赤外線センサー装置内部温度や発火状態を常に監視し、異常が発生した場合は自動消火システムが作動します。ガス圧式ダンパーガス圧式ダンパー自動消火器の消火ガスと連動してダンパーを自動で閉じます。消火剤（CO2）を装置内部に充満させるためにダンパーを閉じます。工場排気側に炎が回り込まないようにダンパーを閉じます。自動消火システム

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とうきょうスカイツリー駅吾妻橋三丁目東東駒形三丁目東業平ー丁目押上駅前浅草通り業平小学校本所税務署本所吾妻橋駅押上駅押上駅東武・京成・都営地下鉄東京メトロB2日本たばこ産業東京テストセンター横川小学校酒房キムラヤKSビルみずほ銀行押上天祖神社A2出入口1業平ー丁目42SemiconductorEquipmentsCatalogue東京テストセンターTestCenterダルトンでは、お客様が安心して装置選定が出来るよう各種テスト機を準備しております。テスト機はクリーンブース内に設置。清浄度クラス1000を確保します。ワークの洗浄、リンスには超純水が使用可能です。リフトオフ、剥離、洗浄の工程においてバッチ式、スピン式の装置を幅広く有しています。酸系、アルカリ系、有機系の薬液に対応しています。クリーン化に対応豊富なテスト機ラインアップ工業用検査顕微鏡を備えています。蛍光観察、微分干渉観察にも対応し、顕微鏡画像データの提供も可能です。検査設備株式会社ダルトン東京テストセンター〒130-0002東京都墨田区業平1-1-9（隅田ロジックス）□本所吾妻橋駅A2出口（都営地下鉄浅草線）□とうきょうスカイツリー駅出入口1（東武スカイツリーライン）□押上駅B2出口（東京メトロ半蔵門線・京成線）どちらの駅からでも徒歩で7〜8分※東京駅から約20〜30分123

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43テスト機ラインアップリフトオフ装置①対応基板サイズ2インチ〜12インチ角基板は要相談にて対応高圧JETノズルツイン（垂直+斜めノズル）JET圧力3MPa〜15MPa（温調JET可Max100℃）パドルノズル付き両面リンス付きエアーブロー付きチャック構造ピンチャックor吸着チャック剥離用薬液リユースシステム付きリフトオフ装置②対応基板サイズ2インチ〜8インチ高圧JETノズルツイン（垂直+斜めノズル）JET圧力3MPa〜20MPa（温調JET可Max100℃）2流体ノズル付きパドルノズル付き両面リンス付きエアーブロー付きチャック構造ピンチャックor吸着チャックチャンバー自動洗浄機能付き剥離用薬液リユースシステム付きウエハー自動搬送ロボット付き剥離装置①/1面オーバーフロー槽対応基板サイズ2インチ〜8インチ角基板は要相談にて対応温調機能インラインヒーター付Max90℃揺動機構上下揺動方式（高速揺動対応max120回/分）槽構造1面オーバーフロー構造ダウンフロー循環、スクリューフローが可能薬液量約35〜55L超音波周波数40&120kHz出力600Wダイナショックモジュレーション機能FlushDrain機能内槽内を洗浄し、バッファタンクへ排出Suffix循環機能ISF（インラインスラッジ除去装置）10um<98%以上超音波モニターリフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップテスト機ラインアップ

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TestCenter東京テストセンター剥離装置②/DoMJetSystem付きオーバーフロー槽対応基板サイズ2インチ〜8インチ（2〜4インチは2カセット処理可能）角基板は要相談にて対応温調機能付きMax100℃揺動機構槽構造薬液量超音波Suffix循環機能超音波モニター上下・左右1面オーバーフロー構造約65L付き（周波数38kHz、80kHz、120kHz、165kHz出力600W）フィルター循環+ISF機能付き付きUSF（ウルトラメッシュフィルター）付きバッチ式エッチング装置対応基板サイズ4、6インチキャリア×2カセット処理搬送自動搬送チャック式エッチング槽4面オーバーフロー構造温調機能付き20〜80℃揺動機構付き上下（ウエハー回転機能付き）QDR槽シャワー機能付きファイナルリンス槽比抵抗計付きスピンエッチング装置対応基板サイズ2、3、4、6インチ角基板は要相談にて対応温調機能付きMax80℃薬液ノズル2ヘッド（うち1ヘッドは、2液混合ノズル）リンスノズル1ヘッド（マイクロナノバブル対応）エアーブローチャック構造薬液供給薬液回収付きピンチャックポリタンクポリタンク44SemiconductorEquipmentsCatalogue

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45テスト機ラインアップQDR槽対応基板サイズ2インチ〜6インチ1カセット処理温調機能なし揺動機構なし槽構造4面オーバーフロー構造上部シャワーノズル付き槽容量約10Lバブリング機構なし超音波なし乾燥装置①/スピンドライヤー対応基板サイズ2インチ〜8インチ方式対向式回転数Max800rpmイオナイザー付きHEPAユニット付き乾燥装置②/IPAベーパー乾燥装置対応基板サイズ2インチ〜12インチ方式手動昇降槽材質石英リフトオフレジスト剥離・有機洗浄オプションベーク溶剤再生レジスト塗布・現像エッチング・洗浄ポーラスシリコン形成ボンベ加熱炉乾燥メッキドラフトチャンバー排ガス処理ストッカー・保管庫テスト機ラインアップテスト機ラインアップ

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創造の、共創へ。多岐にわたる分野で、創造という挑戦を続けるお客様と、歩みを重ねて施設機器事業、機械装置事業を両輪とするダルトングループの力は、創造活動に情熱を抱くお客様のパートナーとしての役割を担うことで、はじめて発揮されます。際立つ個性を携えたグループ各社と共に、歴史と信頼を築いてきたサプライヤーと共に、そして、価値創造の主人公であるお客様と共に。創造の、共創へ｡私たちダルトングループは、おのおのの知と技術を結集し、お客様のあらゆる創造活動と融合することで、革新的な価値を共に創造し、豊かな社会と輝ける未来に貢献します。株式会社ダルトン教育施設株式会社ダルトン工芸センター研究・教育施設の機器製造メンテナンス研究施設施設機器事業部クリーン機器ＣＳ機器事業部粉体機械事業部半導体製造装置粉体機械液処理装置粉粒体加工機械の製造・メンテナンス粉体受託加工液体、粘体、粉粒体加工機械の製造・販売・メンテナンス各種研究機器のメンテナンス粉体の受託加工・プロセス開発46SemiconductorEquipmentsCatalogue

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47INFORMATION(2021年9月現在)会社概要事業所一覧社名株式会社ダルトン(DALTONCORPORATION)本社〒104-0045東京都中央区築地5-6-10浜離宮パークサイドプレイスTEL：03-3549-6800(大代表)FAX：03-3549-6854創業1939年(昭和14年)9月5日資本金1387百万円従業員数363名取引銀行みずほ銀行、商工組合中央金庫、三井住友銀行、三菱UFJ銀行、きらぼし銀行他登録建設業許可国土交通大臣許可(特-3)（建築工事業、管工事業、内装仕上工事業）建設業許可国土交通大臣許可(般-3)（機械器具設置工事業）一級建築士事務所登録東京都知事登録第60483号WEBサイトhttps://www.dalton.co.jpE-mailinfo@dalton.co.jpグループ会社株式会社ダルトン工芸センター不二パウダル株式会社株式会社テクノパウダルトン株式会社ダルトンメンテナンス株式会社昭和化学機械工作所加盟団体日本科学機器協会東京科学機器協会大阪科学機器協会東海科学機器協会九州科学機器協会北海道科学機器協会東北科学機器協会中四国科学機器協会日本薬科機器協会空気調和・衛生工学会日本理科教育振興協会大阪商工会議所粉体工学会日本粉体工業技術協会日本空気清浄協会日本家具保証協会SEFA(米国科学機器・家具協会)他ショールーム〒426-0009静岡県藤枝市八幡407-3東京〒104-0045東京都中央区築地5-6-10浜離宮パークサイドプレイスTEL：03-3549-6843(半導体部門)TEL：03-3549-6810(施設機器部門)TEL：03-3549-6840(粉体機械部門)北海道〒060-0808北海道札幌市北区北八条西5-1サイエンスビルTEL：011-758-3131仙台〒980-0811宮城県仙台市青葉区一番町4-6-1仙台第一生命タワービルTEL：022-217-7266静岡テクノパーク〒426-0009静岡県藤枝市八幡407-3TEL：054-644-5736名古屋〒460-0002愛知県名古屋市中区丸の内1-16-4BPRプレイス名古屋丸の内TEL：052-209-6631大阪(施設機器部門)〒541-0053大阪府大阪市中央区本町1-8-12オーク堺筋本町ビルTEL：06-6268-8610大阪(粉体機械部門)〒579-8014大阪府東大阪市中石切町7-1-45TEL：072-947-5210中四国〒732-0824広島県広島市南区的場町1-2-21広島第一生命OSビルディングTEL：082-568-4501九州〒812-0011福岡県福岡市博多区博多駅前3-19-5博多石川ビルTEL：092-411-2826

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オフィシャルサイトはこちらhttps://www.dalton.co.jp東京東京都中央区築地5-6-10TEL.03-3549-6843FAX.03-3549-6841浜離宮パークサイドプレイスinfo_cs@dalton.co.jp仕様・形状は予告無く変更になる場合があります。ご了承ください。22‐0901DCD

