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# 日本結晶光学パンフレット

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世界でキラリと輝く日本結晶光学私たち日本結晶光学は、「世界でキラリと輝く日本結晶光学」をスローガンに、世界の人々の繁栄と安心・安全な生活の実現に貢献していると自負しています。長年積み上げてきた単結晶育成技術に設計・加工・組立技術を加えて、より付加価値の高い製品をご提供しています。全ての関係者様に「感謝」し、「責任」を持って製品をご提供し続け、今後とも「成長・進化」し続ける企業となるよう日々精進してまいります。「感謝」「責任」「成長・進化」01/NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.

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価値ある商品によって人々の繁栄と平和に貢献するフッ化カルシウム（CaF2）は、半導体露光装置、レーザー装置、半導体検査装置の構成材料として、無くてはならない存在です。高純度で大型のフッ化カルシウム単結晶を製造（育成）することは非常に難しく、世界でも限られた企業のみ供給出来ています。半導体は今後ファインピッチ化が進み、フッ化カルシウムを必要とする装置が増えてくることは間違いありません。私たちは、お客様からの要望をしっかり受け止め、品質向上はもちろん、安定供給出来るよう生産設備の更新にも努めてまいります。セキュリティの関係から、空港、港湾、国境など世界中あらゆる場所で非破壊検査が行われています。当社のタングステン酸カドミウム（CWO）シンチレータ及びディテクタが、世界中の空港にある預け荷物X線検査装置の中に組み込まれています。その他、エアカーゴ、コンテナー、自動車、列車などのX線検査装置にも当社のCWO製品が使われています。CWOは内部を鮮明に写し出すのに最適な結晶材料です。しかし、CWOの結晶育成は非常に難しく安定的に大量に供給できるのは、世界中で当社だけです。人々の安心・安全な生活の実現のため、高品質な製品の安定供給に責任と誇りを持って取り組んでまいります。NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD./02

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OURPRODUCTSシンチレータ・X線検出器当社では、セキュリティ・工業・医療用のX線検査装置向けに、世界でトップシェアを誇るCWOをはじめCsIやGOSなど各種シンチレータ製品を揃えています。X線検出用途向けX線検出器（ディテクタ）、信号処理回路を備えたディテクタモジュール等、お客様のご要望や様々な形状に応じた製品を提供しています。03/NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.

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PRODUCT.1CWOアレイ高いＸ線阻止能を有し、特に高エネルギーX線検査装置で使用されています。低アフターグロー特性により、CT検査装置に適しています。様々なタイプのアレイをご用意できます。製品例EmissionSpectrum1.21ファインピッチアレイ（0.2mmピッチアレイ）〔工業用X線検査装置用〕Intensity,a.u.0.80.60.40.20350400450500550600650700Wavelength,μm鉛セパレータ付きアレイ〔セキュリティ用X線検査装置用〕ChemicalandPhysicalPropertiesDensity[g/cm3]7.9PeakEmissionWavelength[nm]480MeltingPoint[℃]1325PrimaryDecayTime[µs]12CleavagePlane(010)RefractiveIndex[@480nm]2.2-2.3Hardness[Mohs]4-4.5Afterglow[ppm@20ms]Typ.≦100HydroscopicNo大面積2Dアレイ〔セキュリティ用空港預け入れ荷物検査装置（CT）用〕その他の製品低残光CsIアレイAfterglowOutputIntensity,ppm5,0004,5004,0003,5003,0002,5002,0001,500※セラミックスGOS、GOSシート製品についてもご相談ください。ConventionalCsl:TILow-AfterglowCsl:TI(LowAG-Csl)1,000500002004006008001,000Time,msEmissionSpectrumIntensity,arb.units1.00.80.60.40.20.0300400500600700800Wavelength,μmChemicalandPhysicalPropertiesDensity[g/cm3]CleavagePlaneHydroscopic4.51NoneSlightlyPeakEmissionWavelength[nm]PrimaryDecayTime[µs]RefractiveIndex[@550nm]Afterglow[ppm@20ms]MeltingPoint[℃]Hardness[Mohs]50011.8Typ.3,0006212ConventionalCsI:TlTyp.8,000NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD./04

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PRODUCT.2フォトダイオード多様なサイズ・デザインに対応PINフォトダイオードを採用しており、大サイズのフォトダイオードをはじめ、様々なデザインのフォトダイオードをご用意できます。表面照射タイプ（ワイヤーボンディング実装）裏面照射タイプ（フリップチップ実装）PRODUCT.3ディテクタ様々なタイプのディテクタを、カスタム製品でご提供できます。●リニアディテクタ●2Dディテクタ●表面照射・裏面照射型フォトダイオード各種プリニアディテクタ2Dディテクタ通常タイプタイラブルタイSpectralSensitivitySpectralSensitivity,A/WPhysicalandElectricalPropertiesType0.70.60.50.40.30.20.10Thickness[µm]SpectralSensitivity[A/W]MaximumReverseVoltage[V]MaximumForwardVoltage[V](@10mA)Front-illuminatedPD(A)Front-illuminatedPD(B)Back-illuminatedPD30040050060070080090010001100Wavelength,μmSiPINPhotodiode300(Front-illuminatedPD)150(Back-illuminatedPD)SEEFig.100.905/NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.

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PRODUCT.4最終使用製品ディテクタモジュールご要望に合わせて設計・製造検出器からの信号を処理する後回路（増幅、A/D変換）を付属したディテクタ・モジュールでの提供も承ります。用途やご要望に合わせて設計・製造し、提供いたしますのでご相談ください。当社ディテクタ・モジュールの特長手荷物検査装置預け入れ荷物検査装置（CT）検出器（ディテクタ）の直下にそれぞれのチャンネル毎にADC（A/D変換器）を設け、デジタル信号として伝送しています。この回路構成によって、アナログ信号としての伝送距離が短くなり、外部からのノイズによるデータの劣化が少ない等の利点がもたらされるうえ、システム構成上のチャンネル総数やADC速度の制約も小さくなります。当社は、シンチレータ結晶、検出器（ディテクタ）、モジュールを一貫して設計・製造・供給できますので、システムに最適な製品をご提案いたします。コンテナ検査装置非破壊検査装置CT検査装置（医療）高エネルギー用並列で同時にAD変換処理を行うことにより、従来のマルチプレクサ方式のものよりも低ノイズを達成します。ディスクリート部品の使用によりデザイン柔軟性があり、大きな入力信号にも対応できます。SensorBoard（SB）ControlBoard（CB）中・低エネルギー用高エネルギー用と同様に、並列で同時にAD変換処理を行い、従来のマルチプレクサ方式のものよりも低ノイズを達成します。ASICの使用により、プログラムによるゲイン変更が可能です。SensorBoard（SB）ControlBoard（CB）NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD./06

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OURPRODUCTS光学結晶CaF2（フッ化カルシウム）CaF2は、真空紫外域から近赤外域まで高い透過率を持つ材料です。化学的に安定しており、紫外線レーザーにも優れた耐久性を発揮します。光学的には、低分散性・異常部分分散性を兼ね備えているため、高い色収差補正能力を持っています。07/NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.

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当社の製品CaF2(フッ化カルシウム)の透過率（表面反射補正を含まず）1.エキシマレーザーグレード特徴真空紫外域での高い透過率とレーザー耐久性主な用途半導体露光装置、真空紫外レーザー装置用の光学材料2.可視・赤外グレード材料特徴①可視光領域における高い色収差補正能力主な用途テレビカメラ、デジタルカメラ、天体望遠鏡のレンズ材料Transmittance,%100806040t=5mm特徴②近赤外域での高い透過率20主な用途最終使用製品赤外線分析装置の窓材0.2.4.6.81.02.03.05.010152030Wavelength,μm▶半導体露光装置ArF液浸ステッパーCaF2（フッ化カルシウム）の主な性質▶半導体露光装置ArFステッパーCAS番号7789-75-5熱伝導率0.0241cal/cm・s・℃（@50℃）▶半導体露光装置用ArFレーザー密融度点3.18g/cm31418℃熱膨張率結晶構造18.85×10-6/℃立方晶▶ウェハー・マスク検査装置吸湿性0.00151g/100gH2O@18℃劈開｛111｝面▶放送機器用レンズ（スタジオ・野外撮影）比熱0.211cal/g・℃（@50℃）▶望遠レンズカメラ半導体露光装置レンズユニット放送機器用レンズ（スタジオ・野外撮影）NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD./08

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OURPRODUCTS光学結晶CaF2（フッ化カルシウム）CaF2は、真空紫外域から近赤外域まで高い透過率を持つ材料です。化学的に安定しており、紫外線レーザーにも優れた耐久性を発揮します。光学的には、低分散性・異常部分分散性を兼ね備えているため、高い色収差補正能力を持っています。PRODUCT.1エキシマレーザーグレード高透過率・高耐久性のCaF2情報化社会を支える半導体の製造システム。その中心にある半導体露光装置は、微細な回路を描画するために非常に波長の短い真空紫外レーザー(ArFレーザー、KrFレーザー)を用います。これらのレーザーは短波長であり、かつエネルギー密度が非常に高いため、石英よりもレーザー耐久性のあるCaF2が使われます。当社では、半導体露光装置に最適な、高透過率・高耐久性のCaF2を用いたレーザー用光学材料として、エキシマレーザーグレードを販売しています。屈折率波長（nm）（真空中）窒素に対する屈折率（22℃1013.25hPa）レーザー耐久性ArFエキシマレーザーを照射しても透過率がほとんど変化しません。t=32mm95780.237706.714656.454632.990587.725546.227468.269[r][C][d][e][F]1.4307401.4316621.4324501.4328771.4338381.4349261.437006Transmittance,%9085PrePost435.957404.770365.119[g][h][i]1.4394601.4414791.44488080120140160180200210Wavelength,nm334.224289.444253.728228.872214.506206.266194.2271.4484801.4561691.4659811.4763601.4845611.4903171.500597●照射条件：30mJ/cm213ns(FWHM)、2×105shots用途例セルマイヤーの分散式半導体露光装置、紫外線域レーザーの窓材※通常の紫外領域（UV領域）向けのCaF2も取り扱っておりますので、お気軽にご相談ください。n2-1=A1λ2/(λ2-B1）+A2λ2/(λ2-B2）+A3λ2/(λ2-B3）184.9501.510557A16.254288046×10-1B12.813183822×10-3測定精度780.237nm～365.119nm±1×10-6334.244nm～206.266nm±3×10-6194.227nm、184.950nm±5×10-6A24.132684951×10-1A33.40919389222℃、1013.25hPa、窒素中B21.066206606×10-2B31.065596428×103

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PRODUCT.2可視/赤外グレード高透過率で軽量なCaF2CaF2は可視光・赤外領域でも高い透過率を有します。ガラスに較べて分散が低く、異常部分分散を持つため、ガラスとの組み合わせで高い色収差補正能力を発揮します。また、超低分散光学ガラス（EDガラス）に較べて軽いので、移動用カメラ等での撮影者の負担を低減することができます。用途例テレビカメラ用レンズ、デジタルカメラ用交換レンズ、天体望遠鏡/顕微鏡のレンズ、赤外線分析装置の窓材/サンプルホルダ波長（nm）（空気中）空気に対する屈折率（22℃1013.25hPa）2325.421.4221241970.091.4240121529.581.4261271128.641013.64852.110706.519656.273643.847632.820[t][s][r][C][C']1.4281121.4288001.4300291.4316721.4324591.4326891.432886Transmittance,%10090807060504030CaF2BaF2MgF2587.562[d]1.43384720546.075[e]1.43493510486.133[F]1.4370150024681012141618479.992[F']1.437273Wavelength,μm435.835[g]1.439469404.656[h]1.441489365.015[i]測定精度2325.42nm～1128.64nm±5×10-61013.98nm～365.015nm±2×10-6湿度50%1.444888セルマイヤーの分散式n2-1=A1λ2/(λ2-B1）+A2λ2/(λ2-B2）+A3λ2/(λ2-B3）A15.692465192×10-1B12.376435344×10-3A24.695025627×10-1B21.022975163×10-2光学的性質νd95.23θgF0.5386ΔθgF0.0546A31.325486639×10422℃、1013.25hPa、空気中B34.106830854×106お問い合わせ日本結晶光学株式会社【本社・工場】〒374-0047群馬県館林市野辺町810-5Tel.0276-72-1917Fax.0276-75-1800https://nk-k.co.jp本冊子に掲載の写真、データ、デザイン等の無断転載、複製、転用を禁じます。Copyright©NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.AllRightsReserved.

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会社概要名設称立日本結晶光学株式会社1973年7月資本金社名（英名）本社・工場上尾工場海外拠点代表取締役社長取引銀行9,000万円（株主：株式会社丸の内キャピタル100%）NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.〒374-0047群馬県館林市野辺町810-5Tel.0276-72-1917Fax.0276-75-1800〒362-0025埼玉県上尾市上尾下1013-1三井金属構内Tel.048-777-7678Fax.048-777-7679NK&KUSA,Inc.1735N.FirstStreet,Suite290,SanJose,CA95112U.S.A.Tel.+1-408-320-2617吉田忠広群馬銀行・三井住友銀行本冊子に掲載の写真、データ、デザイン等の無断転載、複製、転用を禁じます。Copyright©NIHONKESSHOKOGAKUCO.,LTD.AllRightsReserved.

